中央國家機關(guān)政府采購中心網(wǎng)上競價項目——需求公告 |
公告時間: |
2015-08-13 08:50:10 |
項目名稱: |
哈爾濱工業(yè)大學機電學院高真空多功能薄膜沉積系統(tǒng)采購項目 |
項目編號: |
GDC-20150811155909272 |
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中央國家機關(guān)政府采購中心受采購單位 哈爾濱工業(yè)大學 委托, 對下列貨物及服務(wù)進行網(wǎng)上電子政府采購,現(xiàn)邀請合格投標人進行網(wǎng)上競價。 |
采購項目信息 |
采購單位: |
哈爾濱工業(yè)大學 |
報價截止時間: |
2015-08-21 08:50:10 |
聯(lián)系人: |
曹老師 |
送貨地點: |
哈工大一校區(qū) |
聯(lián)系電話: |
13796028137 |
到貨時間: |
采購結(jié)果公告后 50 天內(nèi)到貨 |
聯(lián)系郵件: |
* |
項目預(yù)算: |
395000.0 (注:此預(yù)算在采購人可支付的情況下可增加金額) |
剩余時間: |
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簽約時間: |
成交公告發(fā)布后14個工作日內(nèi)簽署合同 |
資質(zhì)要求 |
售后服務(wù)網(wǎng)點: |
無具體要求 |
銷售資質(zhì)需求: |
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專業(yè)資質(zhì)需求: |
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踏勘需求 |
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踏勘地點: |
無 |
踏勘時間: |
無 |
聯(lián)系人: |
無 |
聯(lián)系電話: |
無 |
資質(zhì)要求: |
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根據(jù)《中央國家機關(guān)政府采購中心網(wǎng)上競價操作規(guī)程》(國機采辦【2014】10號),采購人對產(chǎn)品質(zhì)保或售后維保有要求的,供應(yīng)商應(yīng)按要求上傳相應(yīng)的質(zhì)?;蚴酆缶S保承諾函。承諾函應(yīng)當真實有效。 售后服務(wù)承諾函或承諾書應(yīng)加蓋公章并以附件形式上傳。在售后服務(wù)承諾函或承諾書之外進行說明內(nèi)容的不視為有效文件。
供應(yīng)商在競價時,須根據(jù)資質(zhì)要求中的內(nèi)容以附件形式上傳相關(guān)資質(zhì)證明。 |
采購商品信息 |
商品分類 |
參考品牌 |
規(guī)格型號 |
單位 |
數(shù)量 |
產(chǎn)地要求 |
維保質(zhì)保要求 |
偏離表 |
技術(shù)指標 |
實驗室設(shè)備 |
新藍天 |
FZJ500 |
臺 |
1 |
中國 |
原廠1年 |
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1、設(shè)備用途:在高真空環(huán)境下,對不同的基體材料進行電子束蒸發(fā)和磁控濺射鍍膜。主要用于氧化物、陶瓷和各種高熔點金屬材料的電子束蒸發(fā)和磁控濺射。 2、腔室尺寸:電子束蒸發(fā)腔室:真空室尺寸Φ500×H500(mm)筒式單層真空室,在真空室壁上焊接水冷槽,通過循環(huán)水對真空室進行冷卻。磁控濺射腔室:磁控濺射腔室坐在蒸發(fā)室的右邊,真空室尺寸Φ450×H450(mm)筒式單層真空室,大法蘭蓋電動升降。 3、系統(tǒng)真空性能指標: 3.1電子束蒸發(fā)室極限真空:連續(xù)烘烤36小時(≤150℃)連續(xù)抽氣其極限真空≤1.0×10-4Pa。 3.2磁控濺射室極限真空:連續(xù)烘烤36小時(≤120℃)連續(xù)抽氣其極限真空≤1.0×10-4Pa。 3.3蒸發(fā)室抽氣速率:從大氣開始抽氣,在≤40分鐘內(nèi),真空度≤8×10-4Pa 3.4濺射室抽氣速率:從大氣開始抽氣,在≤40分鐘內(nèi),真空度≤8×10-3Pa。 3.5蒸發(fā)室漏率:停泵關(guān)機12小時后,測其真空度≤5Pa。 3.6濺射室漏率:停泵關(guān)機12小時后,測其真空度≤5Pa。 4、電子槍主要技術(shù)參數(shù):電子槍功率6KW,電子束偏轉(zhuǎn)角270?,束流在0-600mA范圍內(nèi)可調(diào),四穴水冷銅坩堝,坩堝容積為20ml,深度為22mm,可電動換位,遙控盒手持操作,槍電源高壓滅弧自動復(fù)位,冷卻水:流量≥10L/min,水壓≥0.15Mpa, 入口水溫≤25℃。 5、樣品臺:蒸發(fā)室和磁控濺射室的樣品臺為同一結(jié)構(gòu),具有同樣功能,可放樣品尺寸:100×100(mm),加熱溫度:室溫~300℃,溫度可控可調(diào),樣品與干鍋之間的距離300mm±30可調(diào),樣品與磁控靶之間距離100mm±30可調(diào);樣品轉(zhuǎn)動速度0~20r/min可調(diào)。 6、磁控靶:2支Φ4"永磁靶,RF&DC兼容;均設(shè)置電動擋板,在暴露大氣時2支靶可調(diào)整相對基片的距離和角度。 7、電源:電子槍電源,樣品溫控電源,控制電源,照明烘烤電源,中頻電源,直流電源。 8、進氣系統(tǒng):MFC質(zhì)量流量控制器:兩路進氣,O2:0~50sccm;Ar:0~100sccm。 |
我要競價 |