q*領(lǐng)先的真空技術(shù)供應(yīng)商 Pfeiffer Vacuum (普發(fā)真空) 將于2014年2月12至14日參加韓國s*爾舉辦的 Semicon Korea 韓國半導體展覽會。屆時參觀者可到展臺與 Pfeiffer Vacuum (普發(fā)真空) 就其創(chuàng)新真空解決方案交流意見。“我們很高興能在 Semicon Korea 韓國半導體展覽會上隆重介紹我們重要的新型真空解決方案。我們憑借這些新開發(fā)的產(chǎn)品樹立整個真空行業(yè)的新標桿”，Pfeiffer Vacuum Technology AG 公司董事會成員 Matthias Wiemer 博士如此說道。Pfeiffer Vacuum (普發(fā)真空) 將在 D 廳 5730 號展臺展示新產(chǎn)品：
　　
　　A4 系列新型干式真空泵
　　
　　A4 系列無油多級羅茨泵的抽氣速度可達 100 至 1700 m3/h。這種節(jié)能且可靠的泵是應(yīng)對半導體和鍍膜工業(yè)中苛刻工藝要求的理想選擇。耐腐蝕材料和較高的氣體流量使此系列的泵z*適用于，例如 CVD工藝。
　　
　　A 200 L 新型干式真空泵
　　
　　A 200 L 新型無油多級羅茨泵具有體積小、抽氣速度快且時間短的特點。干式真空泵適合在潔凈室內(nèi)運行，z*適宜用于潔凈環(huán)境，如Load-Lock和Transfer工藝流程，以及其他無腐蝕性應(yīng)用。此外，A 200 L 還易于集成到半導體生產(chǎn)設(shè)備中且在節(jié)能方面表現(xiàn)優(yōu)異。
　　
　　新型磁懸浮渦輪分子泵 ATH 2804 M 和 ATH 3204 M
　　
　　ATH-M 系列磁懸浮渦輪分子泵采用一個有源 5 軸磁懸浮軸承來監(jiān)測轉(zhuǎn)子的位置。這種高級軸承技術(shù)在實現(xiàn)高速安靜運轉(zhuǎn)的同時，也能確保長期的穩(wěn)定性和可靠性。高真空泵配備上的這項技術(shù)以及優(yōu)異的抽氣能力，使其成為半導體生產(chǎn)，特別是蝕刻工藝，以及許多其他工業(yè)應(yīng)用的不二選擇。
　　
　　Pfeiffer Vacuum (普發(fā)真空) 還將出席2014年3月18 至20日上海舉辦的 Semicon China 中國半導體展覽會。
　　
　　Semicon Korea 韓國半導體展覽會地址：
　　
　　Convention & Exhibition Center (COEX)
　　
　　159 Samsung-dong, Gangnam-gu,
　　
　　Seoul 135731, Korea
　　
　　D 廳 5730 號展位

　　
　　Pfeiffer Vacuum 的 A4 系列新型干式真空泵