濺射工藝監(jiān)控器 (SPM)與標(biāo)準(zhǔn)的 PrismaPlus 離子源概念
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2015-06-17 閱讀
濺射工藝監(jiān)控器 (SPM)
離子源在該離子源中，形成區(qū)域 (7) 與工藝室直接相連。分析儀配備了小型分子泵站 (1)，該泵站也將陰極空間 (5) 抽空至大約10-5 hPa。電子通過小孔從低壓側(cè)射入形成區(qū)域 (7)，以便電離氣體。由此形成的離子通過低壓側(cè)的小開口被萃取到質(zhì)量過濾器。該離子源為濺射工藝中檢查氣體組成提供兩個關(guān)鍵優(yōu)勢。一方面，分析在高達三個數(shù)量級以上的離子源壓力下進行；即：真空室中可以承受較高的工藝壓力。另一方面，熱金屬絲不與濺射工藝直接接觸。這避免了熱陰極在敏感工藝中造成的污染。
標(biāo)準(zhǔn)的 PrismaPlus 離子源
這里描述的所有離子源均通過電子碰撞方式進行電離。
離子源可分為兩類：
■ 如果待分析氣體所處的高真空 < 1 · 10-4 hPa 時，則使用開放式離子源。
■ 封閉式離子源用作分析應(yīng)用中，例如，在只提供少量樣氣或減少質(zhì)譜儀真空系統(tǒng)的背景影響時。
封閉式離子源與差動排氣系統(tǒng)（Figure 6.13）結(jié)合使用，以便分析壓力較高的氣體。
