氦質(zhì)譜檢漏技術(shù)反應(yīng)與清除時(shí)間
前面已分別對(duì)反應(yīng)時(shí)間和清除時(shí)間在不同情況下的意義作了說明。這兩個(gè)參數(shù)是衡量檢漏系統(tǒng)動(dòng)態(tài)特性的標(biāo)志，檢漏前應(yīng)對(duì)其進(jìn)行認(rèn)真的估算和測(cè)量。當(dāng)rR較大時(shí)，信號(hào)就上升得慢，rR小，則信號(hào)上升得快，所以檢漏速度也必須與之配合，檢漏速度太快，靈敏度會(huì)降低。清除時(shí)間rc是說明氦氣去掉后信號(hào)下降的速度，它決定檢漏儀恢復(fù)到檢漏前的狀態(tài)所需的時(shí)間，也就是決定了兩次檢漏之間的時(shí)間間隔大小。表13-16給出了反應(yīng)信號(hào)與z*...
