真空分析質(zhì)譜計(jì)的主要應(yīng)用范圍
1．真空和表面物理研究
對(duì)于通常的真空研究，真空分析質(zhì)譜計(jì)的主要用途是分析真空系統(tǒng)內(nèi)的殘余氣體。而對(duì)表面研究來(lái)說(shuō)，目前已逐步將真空質(zhì)譜計(jì)和低能電子衍射儀、俄歇電子譜儀、二次離子質(zhì)譜計(jì)、化學(xué)分析電子譜儀和場(chǎng)致發(fā)射顯微鏡等儀器聯(lián)合使用，用來(lái)研究低壓力下的真空物理過(guò)程。通常在10 -9Pa以至更低的壓力下進(jìn)行分壓力測(cè)量。由于采用的真空系統(tǒng)多數(shù)為無(wú)油或少油的真空泵，所以一般并不要求質(zhì)譜計(jì)有很寬的質(zhì)量范圍。
2．專用器件（如電子顯微鏡、X射線管、陰極射線管和大型超高頻電真空器件）的殘氣分析
在這一類應(yīng)用中，不像表面物理研究那樣，需要檢測(cè)那么低的分壓力，而希望儀器具有較寬的工作質(zhì)量范圍，至少具有能檢測(cè)真空泵油的裂解物的能力。
3．薄膜工藝
制備薄膜時(shí)，用真空分析器控制其工藝過(guò)程是必要的。在蒸發(fā)工藝中，主要是減少殘氣氣氛以防止氧化；在濺射工藝中則重視所充氣體純度，如拉制氬和氧的雜質(zhì)含量。
