濺射鍍膜技術(shù)在納米半導(dǎo)體薄膜的制備領(lǐng)域已經(jīng)得到廣泛應(yīng)用。較為典型的濺射技術(shù)有直流磁控濺射、射頻磁控濺射、離子束濺射以及電子回旋共振等離子體增加濺射等技術(shù)。已利用磁控濺射技術(shù)制備出不同調(diào)制波長(zhǎng)的SiC/W納米多層膜，制備了CaAs/SiO2顆粒鑲嵌薄膜，利用射頻磁控濺射技術(shù)成功地制備了含納米顆粒的二氧化硅薄膜，以及鑲嵌于介質(zhì)中的Ⅲ～V族納米半導(dǎo)體薄膜。
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