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真空裝置的放氣源有:表面吸附氣體的脫附,溶解在材料內(nèi)部的氣體通過(guò)擴(kuò)散而放出,材料的蒸發(fā)、分解、解離,氣體和固體表面進(jìn)行化學(xué)反應(yīng)而生成的氣體。在極高真空系統(tǒng)中,材料的選擇是十分重要的。一般用不銹鋼、銅、無(wú)氧銅、鎢、鉬、鉭、金、銀、硼硅氧玻璃等,它們有一定的強(qiáng)度,化學(xué)性穩(wěn)定,蒸氣...
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