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真空電子束爐概述

  電子束熔煉的設(shè)想于1907年提出,直到1954年才用于生產(chǎn)之中。其主要優(yōu)點(diǎn)有:熔煉速度可在大范圍內(nèi)調(diào)節(jié);功率密度高且易控制;熔池表面溫度高。因而可熔煉難熔金屬,適用于任何形狀的原料(如棒、塊、屑、板等)。易于精確控制熔料的化學(xué)組分,得到一定性能要求的稀有難熔和高純金屬材料。此外,電子束對熔料的掃描還有攪拌作用,有利于合金化與去雜質(zhì)。
  
  工業(yè)上大規(guī)模用于鉭、鋯、鉿及其合金的熔煉,用于不銹鋼的冶煉規(guī)模較小。
標(biāo)簽: 真空電子束爐真空裝置  

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