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離子束刻蝕結(jié)構(gòu)特點(diǎn)—離子源

  離子源采用永久磁鐵軸向發(fā)散磁場結(jié)構(gòu)的考夫曼(Kaufman)型離子源。圓筒形陽極直徑為150mm;鉭絲陰極直徑為0.4mm,長度為130mm,繞成內(nèi)徑約2mm的單螺旋形;鉭絲中和器直徑為0.4mm,長度70mm;多孔鉬制屏柵極和加速極開扎區(qū)直徑為120mm柵極間隙1.5mm。為了便于裝拆和清洗,離子源整體結(jié)構(gòu)為可拆卸式。陰極組件可單獨(dú)卸下來,中和器裝在屏蔽罩正面。供氣管和引線為接插式結(jié)構(gòu)。圖10-39為離子源示意圖。
  
  考夫曼離子源由于它的離子流密度較高,可達(dá)1mA/cm²以上,束徑可達(dá)350mm,均勻性為±5%,可變離子能量為2keV。為此,目前的離子束刻蝕設(shè)備一般均采用考夫曼型離子源。

離子束刻蝕結(jié)構(gòu)特點(diǎn)—離子源
  
標(biāo)簽: 離子束刻蝕離子源  

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