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離子束刻蝕結(jié)構(gòu)特點(diǎn)—真空室

  離子束刻蝕設(shè)備一般采取臥式結(jié)構(gòu)(也有立式結(jié)構(gòu))。臥式結(jié)構(gòu)離子束水平方向噴射,刻蝕的濺射物大部分落在真空室底部,能減少濺射材料的重新沉積。立式結(jié)構(gòu)相反,刻蝕質(zhì)量難以保證。

  刻蝕設(shè)備的真空室一般采用圓筒形結(jié)構(gòu),用1Cr18Ni9Ti不銹鋼焊接而成。z*好是在兩邊都開(kāi)門(mén)以便裝卸工件、檢修和清洗離子源和快門(mén)等,關(guān)在適當(dāng)位置設(shè)置觀察窗以便觀察刻蝕進(jìn)行的情況。大門(mén)為蝶形封頭或平面形,開(kāi)啟與關(guān)閉應(yīng)輕便靈活。真空室內(nèi)壁應(yīng)拋光,內(nèi)表面光滑,便于清洗真空室。
標(biāo)簽: 離子束刻蝕真空室  

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