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　　等離子體化學(xué)氣相沉積有兩種： 　　 　　一是等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積( PECVD)，二是等離子體化學(xué)氣相沉積(PCVD)它們都是20世紀(jì)70年代發(fā)展起來的工藝。其特點(diǎn)是： 　　 　?、俚蜏爻赡?，溫度對(duì)基片影響小，避免了高溫成膜的晶粒粗大及膜層與基片之間生成脆相； 　　 　?、诳芍苽浜衲ぃ映煞志鶆?，針孔小、致密、內(nèi)應(yīng)力小，不易產(chǎn)生微裂紋； 　　...