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　　用CVD方法制作金屬薄膜，幾乎適用手所有的金屬，但一般低熔點(diǎn)金屬不必用CVD方法制膜，用蒸鍍和離子鍍方法可以得到優(yōu)質(zhì)薄膜。CVD制金屬膜，僅用于制作熔點(diǎn)高、硬度大的膜，如Ta、Mo、W、Re等金屬膜。用CVD法還可以制作微細(xì)晶粒的純致密金屬，制造形狀復(fù)雜的金屬制品，如鎢坩堝、管件、噴嘴等。CVD法涂覆難熔金屬的反應(yīng)式及溫度由表10-21給出。