化學(xué)氣相沉積是以化學(xué)反應(yīng)方式制作薄膜。其原理是將含有制膜材料的反應(yīng)氣體通到基片上,在基片上發(fā)生化學(xué)反應(yīng)形成薄膜,對CVD薄膜生成過程,可以定性地歸結(jié)為反應(yīng)氣體通到基片上后,反應(yīng)氣體分子被基片表面吸附,并在基片表面上產(chǎn)生化學(xué)反應(yīng),形成核,然后反應(yīng)生成物脫離基片表面,并沿基片表面不斷擴(kuò)散形成薄膜。CVD沉積薄膜速率較PVD高,PVD通常在25μm/h—250μm/h范圍,而...