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真空鍍膜:離子鍍應(yīng)用概況

  基于離子鍍沉積速度快,鍍材廣泛,繞射性好,鍍層質(zhì)密,附著性好等特點(diǎn),其應(yīng)用日趨廣泛,將來有可能代替濕式電鍍。離子鍍應(yīng)用領(lǐng)域見表10-14。

真空鍍膜:離子鍍應(yīng)用概況
標(biāo)簽: 真空鍍膜離子鍍  

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