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真空鍍膜：離子鍍應(yīng)用概況

2014-05-21 06:19:00  閱讀()

　　基于離子鍍沉積速度快，鍍材廣泛，繞射性好，鍍層質(zhì)密，附著性好等特點(diǎn)，其應(yīng)用日趨廣泛，將來有可能代替濕式電鍍。離子鍍應(yīng)用領(lǐng)域見表10-14。

真空鍍膜：離子鍍應(yīng)用概況
標(biāo)簽： 真空鍍膜離子鍍  

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