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真空電弧離子鍍是由美國Multi-Arc公司和Vac-Tec公司聯(lián)合開發(fā)的，1981年達到工業(yè)實用化階段。 電弧離子鍍的原理是基于冷陰極真空弧光放電理論提出的。該理論認為放電過程的電量遷移是借助于場電子發(fā)射和正離子電流這兩種機制同時存在且相互制約而實現(xiàn)的...
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