真空系統(tǒng)及材料表面常見的污染源有哪些
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2017-11-10 閱讀
日常環(huán)境中，污染物無處不在。因此真空系統(tǒng)及真空材料存放使用等過程中其表面就難以避免地會(huì)受到污染。所以真空系統(tǒng)及材料的清洗凈化就成為真空應(yīng)用中的一項(xiàng)日常工作。那真空應(yīng)用中這些常見的污染源又有哪些呢，我們一起來看看。
真空應(yīng)用中，真空系統(tǒng)及材料表面常見的污染物包括塵埃、碳?xì)浠?、氯化物、硫化物、氟化物等等。它們可以是液體，也可以是氣體或者固體，以膜或者散粒的形式存在于真空系統(tǒng)或材料的表面。對(duì)這些污染物來源進(jìn)行大致歸類的話主要包括以下幾種：
1、環(huán)境空氣中的塵埃和拋光殘?jiān)捌渌袡C(jī)物等。
2、長(zhǎng)期放置在空氣中或潮濕空氣中形成的表面氧化物。
3、各類在加工、裝配、操作時(shí)沾染的潤(rùn)滑劑、切削液、真空油脂等。
4、來源于操作時(shí)的手汗、吹氣時(shí)的水汽以及唾液等水基類污染物。
5、清洗時(shí)的殘余物質(zhì)以及上面已經(jīng)提到的手汗等帶來的酸堿鹽類物質(zhì)。
真空系統(tǒng)及材料表面的污染可能會(huì)影響到系統(tǒng)在工作穩(wěn)定性，比如高溫、低溫以及電子、離子、重粒子轟擊時(shí)等。因此在真空工藝過程前需要對(duì)真空系統(tǒng)及材料進(jìn)行凈化清洗。
