電弧蒸發(fā)鍍膜技術(shù)
電弧蒸發(fā)鍍膜技術(shù)利用弧光放電的高溫使鍍材蒸發(fā)，不像電阻式蒸發(fā)鍍膜技術(shù)會由于過高溫度在對鍍材進(jìn)行蒸發(fā)的同時(shí)，也使坩堝的部分材料蒸發(fā)，使鍍材受污染而純度降低，和電子束加熱的方法類似，只對鍍材形成高溫，產(chǎn)生的溫度比電阻式蒸發(fā)的溫度還要高很多倍，對高熔點(diǎn)的鍍材也可以進(jìn)行加熱蒸發(fā)，而電弧蒸發(fā)鍍膜裝置結(jié)構(gòu)相對于電子束蒸發(fā)裝置簡單，因此價(jià)格也相對便宜。 將鍍材置于電極頂端，通過控制電極之間的距離使電弧點(diǎn)燃，發(fā)生弧光放電，弧光放電所產(chǎn)生的溫度達(dá)到3000℃以上，而且是瞬間激發(fā)的高溫，足以熔化很多像石墨這樣的高熔點(diǎn)鍍材并蒸發(fā)，蒸發(fā)后的鍍材氣體沉積到工件表面成膜，可以利用點(diǎn)燃電弧的次數(shù)或點(diǎn)燃的時(shí)間來控制膜層的百度，如需要薄一點(diǎn)的膜層，可心減少電弧點(diǎn)燃的次數(shù)或者縮短點(diǎn)燃的時(shí)間，相反操作就可以獲得厚一點(diǎn)的膜層。但電弧蒸發(fā)鍍膜技術(shù)也存在一些缺點(diǎn)，由于弧光放電的瞬間激發(fā)的，很容易會產(chǎn)生一些微米量級的電極顆粒，混到膜層材料中使膜層均勻性受到影響。
