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蒸發(fā)鍍與濺射的區(qū)別
2012-11-14  閱讀

來源:廣東匯成真空科技有限公司  作者:廣東匯成真空科技有限公司

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       真空鍍膜設(shè)備經(jīng)過近幾十年的發(fā)展目前主要分有:蒸發(fā)真空鍍膜機(jī),多弧離子真空鍍膜機(jī),磁控濺射真空鍍膜機(jī)還有就是多功能混合型鍍膜機(jī)等。 蒸發(fā)真空鍍膜機(jī)工作原理是通過加熱靶材使表面以原子或離子形式被蒸發(fā),沉降在鍍膜材料表面形成薄膜。蒸發(fā)鍍膜的特點(diǎn)是膜層組分均勻性不是很容易保證,膜層結(jié)合力不是很好。濺射真空鍍膜設(shè)備的原理可以簡單理解為利用高能激光或電子轟擊靶材,并使表面組分以原子或離子形式被濺射出來,并且z*終沉積在鍍膜材料表面,形成薄膜。廣東匯成真空科技有限公司