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真空鍍膜技術
標簽: 真空鍍膜
2005-07-13  閱讀

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        隨著人們生活水平的提高,手機的使用也越來越普遍,但是,手機在帶給人們方便的同時,其輻射對人體的危害也日益凸現(xiàn)。研究表明,手機產(chǎn)生的電磁波強度是空間電磁波的4到6倍。少數(shù)劣質手機產(chǎn)生的電磁波甚至達到空間電磁波百倍以上。
        手機輻射可引發(fā)神經(jīng)衰弱、內分泌失調,還能影響少年兒童的生長發(fā)育,嚴重的甚至會引發(fā)腦瘤。如何減輕手機輻射對人體健康的影響,已成為擺在我們面前的一個急需解決的問題。應用手機真空鍍膜技術,就可以較好地解決這個難題。真空鍍膜是在原子水平上進行材料生成的技術,鍍層的晶料度在10納米左右,屬于納米材料的范疇。通過對手機殼內壁真空鍍電磁防護膜層,可以極大地防止因電磁波輻射而對手機使用者造成的危害。
        由北京東明化學工業(yè)有限公司完成的硬課題“手機真空鍍膜技術的研究”,主要解決的是鍍膜的工藝問題,包括電阻率、附著力、高溫抗氧化性、膜層表面光亮度以及復雜區(qū)域的膜層附著問題。手機真空鍍膜技術的研究與應用,不僅推動了手機制造業(yè)的發(fā)展,也推動了相關產(chǎn)業(yè)的發(fā)展。有電磁輻射的產(chǎn)品都可以應用這項技術進行電磁屏蔽,以對其使用性能進行優(yōu)化,保護人類健康,保護環(huán)境。
        該項技術的開發(fā)成功,使東明公司的整體技術水平又向前邁進了一大步。專家認為:手機真空鍍膜技術立項起點高,是對傳統(tǒng)電鍍技術的一個挑戰(zhàn),它避免了傳統(tǒng)電鍍技術對環(huán)境造成的污染,是一個環(huán)保型的項目。