【康沃真空網(wǎng)】物理氣相沉積（PVD）技術(shù)出現(xiàn)于二十世紀(jì)七十年代末，制備的薄膜具有高硬度、低摩擦系數(shù)、很好的耐磨性和化學(xué)穩(wěn)定性等優(yōu)點(diǎn)。
PVD是指在真空條件下利用高溫蒸發(fā)或高能粒子等物理方法轟擊靶材，使靶材表面原子“蒸發(fā)”并沉積在襯底表面，沉積速率高，一般適用于各類金屬、非金屬、化合物膜層的平面沉積。 按照沉積時(shí)物理機(jī)制的差別，物理氣相沉積一般分為真空蒸發(fā)鍍膜、真空濺射鍍膜、離子鍍膜和分子束外延等。
▲ 真空蒸發(fā)鍍膜工作原理示意圖 PVD基本原理可分三個(gè)工藝步驟：
? 鍍料的氣化：即使鍍料蒸發(fā)，升華或被濺射，也就是通過(guò)鍍料的氣化源；
? 鍍料原子、分子或離子的遷移：由氣化源供出原子、分子或離子經(jīng)過(guò)碰撞后，產(chǎn)生多種反應(yīng)；
? 鍍料原子、分子或離子在基體上沉積。近年來(lái)，薄膜技術(shù)和薄膜材料的發(fā)展突飛猛進(jìn)、成果顯著，在原有基礎(chǔ)上，相繼出現(xiàn)了離子束增強(qiáng)沉積技術(shù)、電火花沉積技術(shù)、電子束物理氣相沉積技術(shù)和多層噴射沉積技術(shù)等。與此同時(shí)，以PVD工藝為核心的真空鍍膜設(shè)備應(yīng)用也越來(lái)越廣泛，尤其在科研行業(yè)，真空鍍膜設(shè)備已成為鍍膜工藝開(kāi)發(fā)、材料研究、納米結(jié)構(gòu)、膜層性能研究等尖端鍍膜領(lǐng)域不可或缺的硬件設(shè)施。相比于工業(yè)應(yīng)用的真空鍍膜生產(chǎn)線，針對(duì)科研領(lǐng)域的實(shí)驗(yàn)室真空鍍膜設(shè)備外形更美觀、結(jié)構(gòu)更緊湊，而且具有性能多樣、操作簡(jiǎn)單、運(yùn)行可靠等特點(diǎn)。
許多高端設(shè)備可實(shí)現(xiàn)蒸發(fā)鍍膜、磁控濺射鍍膜、電弧鍍膜等工藝的自由選擇。其特點(diǎn)主要如下：
? 緊湊靈活：設(shè)計(jì)緊湊，占地面積小，便于在實(shí)驗(yàn)室或小型生產(chǎn)線等空間有限的環(huán)境中使用。同時(shí)，其靈活性也意味著它可以更容易地適應(yīng)不同的工作環(huán)境和場(chǎng)景。
? 操作簡(jiǎn)單：通常具有更簡(jiǎn)單的操作界面和更少的操作步驟，操作人員能夠更快地掌握使用方法。同時(shí)，其簡(jiǎn)單的結(jié)構(gòu)也降低了故障率，減少了維修和保養(yǎng)的麻煩。
? 應(yīng)用廣泛：在科研領(lǐng)域，可用于制備各種材料的薄膜，以研究材料的表面性能、光學(xué)性能、電學(xué)性能等。另外，實(shí)驗(yàn)室真空鍍膜設(shè)備更加注重結(jié)果的精確性，所以高精度控制系統(tǒng)必不可少，以精確控制蒸鍍過(guò)程中的各種參數(shù)，如溫度、真空度、蒸發(fā)速率等，從而確保薄膜制備的質(zhì)量和穩(wěn)定性。
