【康沃真空網(wǎng)】什么是蒸發(fā)鍍膜？
真空蒸發(fā)鍍膜是指在真空條件下，通過(guò)蒸發(fā)源加熱蒸發(fā)某種物質(zhì)使其沉積在基板材料表面來(lái)獲得薄膜的一種技術(shù)。被蒸發(fā)的物質(zhì)被稱為蒸鍍材料。由于真空蒸發(fā)法或真空蒸鍍法主要物理過(guò)程是通過(guò)加熱蒸發(fā)材料而產(chǎn)生，所以又稱熱蒸發(fā)法或者熱蒸鍍，所配套的設(shè)備稱之為熱蒸發(fā)真空鍍膜機(jī)。
蒸發(fā)鍍膜是PVD真空鍍膜方式的一種，其特點(diǎn)是在真空條件下，材料蒸發(fā)并在玻璃表面上凝結(jié)成膜，再經(jīng)高溫?zé)崽幚砗?，在玻璃表面形成附著力很?qiáng)的膜層。濺射鍍膜和蒸發(fā)鍍膜是目前最主流的兩種 PVD 鍍膜方式。
蒸發(fā)鍍膜的原理
真空蒸發(fā)鍍膜系統(tǒng)一般由三個(gè)部分組成：真空室、蒸發(fā)源或蒸發(fā)加熱裝置、放置基板及給基板加熱裝置。將膜材置于真空鍍膜室內(nèi)，通過(guò)蒸發(fā)源加熱使其蒸發(fā)，當(dāng)蒸發(fā)分子的平均自由程大于真空鍍膜室的線性尺寸時(shí)，蒸汽的原子和分子從蒸發(fā)源表面逸出后，在飛向基片表面過(guò)程中很少受到其他粒子（主要是殘余氣體分子）的碰撞阻礙，可直接到達(dá)被鍍的基片表面，由于基片溫度較低，便凝結(jié)其上而成膜，為了提高蒸發(fā)分子與基片的附著力，對(duì)基片進(jìn)行適當(dāng)?shù)募訜崾潜匾?。為使蒸發(fā)鍍膜順利進(jìn)行，應(yīng)具備蒸發(fā)過(guò)程中的真空條件和制膜過(guò)程中的蒸發(fā)條件。
將基片放入真空室內(nèi)，以電阻、電子束、激光等方法加熱膜料，使膜料蒸發(fā)或升華，氣化為具有一定能量（0.1～0.3eV）的粒子（原子、分子或原子團(tuán)）。氣態(tài)粒子以基本無(wú)碰撞的直線運(yùn)動(dòng)飛速傳送至基片，到達(dá)基片表面的粒子一部分被反射，另一部分吸附在基片上并發(fā)生表面擴(kuò)散，沉積原子之間產(chǎn)生二維碰撞，形成簇團(tuán)，有的可能在表面短時(shí)停留后又蒸發(fā)。粒子簇團(tuán)不斷地與擴(kuò)散粒子相碰撞，或吸附單粒子，或放出單粒子。此過(guò)程反復(fù)進(jìn)行，當(dāng)聚集的粒子數(shù)超過(guò)某一臨界值時(shí)就變?yōu)榉€(wěn)定的核，再繼續(xù)吸附擴(kuò)散粒子而逐步長(zhǎng)大，最終通過(guò)相鄰穩(wěn)定核的接觸、合并，形成連續(xù)薄膜。
其優(yōu)點(diǎn)操作比較簡(jiǎn)單，制成的薄膜純度高、質(zhì)量好，厚度可較準(zhǔn)確控制；成膜速率快，效率高；薄膜的生長(zhǎng)機(jī)理比較簡(jiǎn)單；
常見(jiàn)蒸鍍材料及蒸發(fā)裝置選擇
蒸鍍材料種類：按照化學(xué)成分主要可以分為金屬/非金屬顆粒蒸發(fā)料、氧化物蒸發(fā)料、氟化物蒸發(fā)料等。
金屬及非金屬顆粒 ：鋁蒸發(fā)料、鎳蒸發(fā)料、銅蒸發(fā)料、銀蒸發(fā)料、鈦蒸發(fā)料、硅蒸發(fā)料、釩蒸發(fā)料、鎂蒸發(fā)料、錫蒸發(fā)料、鉻蒸發(fā)料、銦蒸發(fā)料、銀銅蒸發(fā)料、金蒸發(fā)料、微晶銀粉等。
氧化物 ：鈦鉭合金、鋯鈦合金、硅鋁合金、三氧化二鋁、二氧化鋯、五氧化三鈦、石英環(huán)、石英片、氧化鉺、鈦酸鑭等
氟化物 ：氟化鎂、氟化鏑、氟化鑭等。
常見(jiàn)蒸鍍材料及蒸發(fā)裝置選擇
?。?）鍍膜及被鍍材料范圍廣泛，金屬及其合金，陶瓷，有機(jī)物等均可以通過(guò)蒸鍍得到各種薄膜或者介質(zhì)膜。
?。?）鍍膜過(guò)程精確可控，可對(duì)膜厚進(jìn)行比較精確的控制和測(cè)量，從而保證了膜厚均勻性。
?。?）鍍膜過(guò)程可以連續(xù)化，大大提高產(chǎn)品產(chǎn)量。
（4）蒸鍍所得膜附著力強(qiáng)，純度高，密實(shí)性好，表面光亮。其機(jī)械性能和化學(xué)性能遠(yuǎn)遠(yuǎn)高于電鍍膜和化學(xué)膜。
真空蒸發(fā)鍍膜原理圖
