4種濺射靶材簡述
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2023-03-16 閱讀
【康沃真空網(wǎng)】高純?yōu)R射靶材，包括鋁靶、鈦靶、鉭靶、鎢鈦靶等。濺射靶材主要涉及平板顯示、半導體、存儲和太陽能電池四大領域。
鋁靶
高純鋁及其合金是應用最廣泛的導電膜材料之一。在其應用領域，VLSI芯片的制造對濺射靶金屬的純度要求最高，通常要求高達99.9995%，平板顯示器和太陽能電池的金屬純度略低。
鈦靶
鈦是超大規(guī)模集成電路芯片中最常用的阻隔膜材料之一（對應的導電層材料為鋁）。在預芯片制造過程中，鈦靶將與鈦環(huán)一起使用。主要作用是輔助鈦靶完成濺射工藝，主要應用于超大規(guī)模集成電路芯片制造領域。
鉭靶
隨著智能手機平板等消費電子產(chǎn)品需求爆發(fā)式增長，高端芯片需求大幅增加，使得金屬鉭成為熱點礦產(chǎn)資源，但鉭資源稀缺，使得高純鉭靶材價格昂貴，主要應用于大規(guī)模集成電路等領域。
鎢鈦靶材
鎢鈦合金具有低電子遷移率、穩(wěn)定的熱機械性能、良好的耐腐蝕性和良好的化學穩(wěn)定性。近年來，鎢鈦合金濺射靶材被用作半導體芯片柵極電路的接觸層材料。此外，鎢和鈦靶材還可用作半導體器件金屬連接中的阻擋層。用于高溫環(huán)境，主要用于超大規(guī)模集成電路和太陽能電池。
超高純金屬和濺射靶材是電子材料的重要組成部分。濺射靶材產(chǎn)業(yè)鏈主要由金屬提純、靶材制造、濺射鍍膜和終端應用組成，其中靶材制造和濺射是整個濺射靶材產(chǎn)業(yè)鏈的關鍵環(huán)節(jié)。
