【康沃真空網(wǎng)】磁控濺射鍍膜是屬于真空鍍膜的一種。
磁控濺射鍍膜-濺射原理:是加工時(shí)達(dá)到真空條件,一般控制在1.013*10-1-1.3*10-6Pa,加工室內(nèi)通入Ar(氬氣),并啟動(dòng)DC鍵,Ar發(fā)作電離產(chǎn)生氬離子,在電場(chǎng)效果下,電子會(huì)加快飛向陽(yáng)極,在電場(chǎng)效果下,Ar+會(huì)加快飛向陰極的靶材,靶材粒子及二次電子被擊出,前者到達(dá)基片表面進(jìn)行薄膜生長(zhǎng),后者被加快至陰極途中促成更多的電離。筆直方向分布的磁力線將電子約束在靶材表面附近,延長(zhǎng)其在等離子體中的運(yùn)動(dòng)軌道,加速它與氣體分子磕碰和電離過(guò)程的幾率的效果。
相對(duì)蒸發(fā)鍍,磁控濺射鍍膜有如下的特點(diǎn):
1、膜厚可控性和重復(fù)性好;
2、薄膜與基片的附著力強(qiáng);
3、能夠制備絕大多數(shù)材料的薄膜,包含合金,化合物等;
4、膜層純度高,細(xì)密;
5、堆積速率低,設(shè)備也更復(fù)雜。