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采用雙靶非反應磁控濺射，通過改變基底偏壓，制備了一系列Ni摻雜TiB2基的涂層。通過X射線能譜儀確定其成分，利用X射線衍射、掃描電鏡對涂層的結構進行分析，并通過納米壓痕、維氏壓痕、劃痕以及摩擦磨損分別對涂層的硬度、模量、斷裂韌性、膜基結合力和摩擦學性能進行了表征。結果表明：此工藝下制備的TiB2-Ni涂層中均存在六方相的TiB2結構，并且生長結構非常...