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納米金剛石具有比普通金剛石更優(yōu)越的性能，目前有諸多學者致力于納米金剛石的研究。化學氣相沉積法(CVD)制備納米金剛石是近年來比較成熟的制備方法。通過簡要描述納米金剛石薄膜的生長機制，介紹了兩種制備納米金剛石薄膜的方法及其優(yōu)勢，討論了兩種方法在納米金剛石的質(zhì)量、尺寸及沉積速率等方面取得的z*新研究進展，并對今后的主要研究方向進行了展望。
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