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半球形基底鍍膜膜厚均勻性理論分析
標(biāo)簽:
2015-04-21  閱讀

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對(duì)特殊的非平面基片-半球表面上鍍制薄膜的膜厚均勻性進(jìn)行了理論分析研究。s*先, 推導(dǎo)了半球面靜止時(shí)球面各點(diǎn)的膜厚方程以及此時(shí)半球面能夠鍍膜的區(qū)域。然后推算了半球表面沿通過(guò)球心豎直方向的軸轉(zhuǎn)動(dòng)后球面各位置處的膜厚方程, 另外當(dāng)蒸發(fā)源與球心的水平距離小于半球面半徑時(shí), 存在一定區(qū)域無(wú)法鍍膜, 對(duì)該區(qū)域進(jìn)行了理論計(jì)算。z*后通過(guò)計(jì)算相對(duì)膜厚分析了半球表面膜...