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背電極ZnO:Al薄膜與n-a-Si:H膜接觸特性的研究
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2015-04-14  閱讀

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本文分別采用電子束蒸發(fā)和磁控濺射的方法在n 型摻雜(n-Si:H)膜上沉積了不同摻雜量和不同厚度的摻Al 的ZnO(ZnO:Al)薄膜。通過I-V 測試儀測試了兩種方法制備的ZnO:Al 薄膜與n-Si:H膜的接觸特性,結(jié)果顯示對于電子束蒸發(fā)制備的ZnO:Al 薄膜,當(dāng)摻雜濃度為2.5%時(shí)n-a-Si:H/ZnO:Al的接觸電阻z*小,在厚度變化不大的情況下,n-a-Si:H/ZnO:Al 的接觸電阻隨著ZnO:Al 厚度的增加而增大。而磁控濺射制備的ZnO:Al 薄膜,n-a-Si:H/ZnO:Al 的接觸電阻隨著厚度的增加而不斷減小。

半導(dǎo)體材料的薄膜化可以大幅度降低太陽能電池的成本,所以薄膜太陽能電池的研究已經(jīng)成為下一代光伏研究的熱點(diǎn)。要提高硅薄膜太陽能電池的效率,背反射電極(ZnO:Al)的加入至關(guān)重要。硅薄膜太陽能電池的短路電流是由光的透射、反射和載流子的復(fù)合所決定。背反射電極n/TCO/Al 的加入,使透過電池到達(dá)背電極的那部分再反射回來,進(jìn)行二次吸收,這樣可以增加I層的光吸收從而提高電池效率。提高短路電流是背反射電極的主要作用。

然而,對于pin 硅薄膜太陽能電池來講,在背反射電極n/TCO/Al 的制備時(shí),要在n+ 層上濺射ZnO:Al 透明導(dǎo)電膜,由于濺射粒子能量很大,它對電池的轟擊比較嚴(yán)重,所以ZnO:Al 的濺射功率不能太大;要提高電池的轉(zhuǎn)換效率,就要盡量減小串聯(lián)電阻值,背電極和n+之間必須形成良好的歐姆接觸,盡量減少對載流子的阻擋作用。因此,為提高電池效率很有必要深入研究TCO/n 界面的接觸效應(yīng)。

本文采用PECVD法在ZnO:Al 薄膜上沉積了n-a-Si:H 薄膜,接著分別用電子束蒸發(fā)和磁控濺射法在n-a-Si:H 薄膜上制備ZnO:Al 薄膜,并對ZnO:Al 薄膜與n-a-Si:H 薄膜的電接觸特性進(jìn)行了研究,從而找到ZnO:Al薄膜的z*優(yōu)化條件。

1、實(shí)驗(yàn)方法和設(shè)計(jì)

用PECVD 法[9-10]在ZnO:Al 導(dǎo)電玻璃上沉積n-a-Si:H 薄膜,沉積條件為:電極間距(d=2 cm),硅烷含量(SiH4%=2%),硼烷含量(PH3%=0.8%),沉積溫度(T=250 ℃),氣體總流量(TF=187.4 sccm),反應(yīng)氣壓(P=133.3 Pa),沉積功率(Prf=50 W)。然后再在n-a-Si:H 薄膜上沉積ZnO:Al 薄膜,用兩種方法(1)電子束蒸發(fā)的沉積條件為:溫度:200 ℃,氧分壓:1×10-2 Pa,束流:40 mA,不同的摻雜量(Al2O3:ZnO)分別為2%、2.5%和3%,保持摻雜量為2.5%時(shí),改變沉積時(shí)間分別為10 min、15 min、20 min、25 min 和30 min。(2)磁控濺射反應(yīng)條件為:溫度:200 ℃,氧流量:5.06 sccm,氬流量:18.6 sccm,濺射電流:1 A。不同厚度的反應(yīng)時(shí)間分別為:4 min、8 min 和10 min。z*后在樣品上蒸鍍鋁電極,對其進(jìn)行I-V 測試。

樣品的接觸特性用I-V 測試儀進(jìn)行了測量和分析,所用的儀器為美國吉時(shí)利公司生產(chǎn)的2182A 納伏表和2400恒流源。樣品的晶化率用Raman 譜進(jìn)行了測量和分析, 所用的儀器為Renishaw 2000。

2、結(jié)論

對于電子束蒸發(fā)制備的ZnO:Al 薄膜,摻雜濃度存在一拐點(diǎn),當(dāng)摻雜濃度為2.5%時(shí),n-a-Si:H/ZnO:Al 的接觸電阻z*小,這是因?yàn)樵趽诫s濃度為2.5%時(shí)ZnO:Al 薄膜的電阻率z*小;而保持摻雜濃度為2.5%時(shí),n-a-Si:H/ZnO:Al 的接觸電阻隨著ZnO:Al 厚度的增加而不斷增大,分析認(rèn)為,厚度變化不大時(shí),薄膜的性能基本相同(電阻率和結(jié)晶度差別不大),但體電阻隨著厚度的增加而增加。

對于磁控濺射制備的ZnO:Al 薄膜,n-a-Si:H/ZnO:Al 的接觸電阻隨著厚度的增加而不斷減小,因?yàn)閷τ诖趴貫R射制備的ZnO:Al 薄膜來說,隨著ZnO:Al 厚度的增加,ZnO:Al 薄膜的電阻率不斷減小,結(jié)晶度也不斷變好。