高功率脈沖磁控濺射具有高的金屬離化率，在薄膜制備表現(xiàn)出巨大的優(yōu)勢，成為當(dāng)前磁控濺射技術(shù)領(lǐng)域一個新的發(fā)展趨勢。高功率脈沖磁控濺射的放電特性、等離子體特性等微觀參數(shù)對薄膜質(zhì)量控制具有決定性作用，分析宏觀參數(shù)如何影響微觀參數(shù)，有利于提高薄膜質(zhì)量，穩(wěn)定工藝。因此，本文研究了脈沖與直流電源并聯(lián)模式的復(fù)合高功率脈沖磁控濺射過程中，脈沖電壓(400~800 V)對...
