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采用多弧離子鍍?cè)诟咚黉摶咨铣练eTiAlN薄膜。利用掃描電鏡(SEM)觀測(cè)薄膜的表面形貌；用EDS分析薄膜表面的成分；用表面輪廓儀測(cè)試薄膜的厚度并結(jié)合沉積時(shí)間計(jì)算出沉積速率；用維氏硬度儀測(cè)量薄膜的硬度；用XRD表征薄膜的微觀結(jié)構(gòu)。結(jié)果表明，隨著偏壓峰值的增大，表面大顆粒逐漸減少，致密性逐漸變好，薄膜硬度也隨之增加。沉積參數(shù)對(duì)薄膜成分有影響，偏壓峰值對(duì)...