脈沖偏壓對(duì)離子束輔助電弧離子鍍TiN/Cu納米復(fù)合膜結(jié)構(gòu)及硬度的影響
【康沃真空網(wǎng)】采用離子束輔助電弧離子鍍技術(shù)在高速鋼基體上制備TiN/Cu 納米復(fù)合薄膜，考察了基體脈沖負(fù)偏壓對(duì)薄膜成分、結(jié)構(gòu)及硬度的影響。用X 射線光電子譜、X 射線衍射、掃描電鏡、透射電鏡和納米壓痕等方法分別測(cè)試了薄膜的化學(xué)成分、結(jié)構(gòu)、表面形貌、硬度以及彈性模量。結(jié)果表明，在氮離子束的轟擊作用下，隨著脈沖偏壓幅值從-100 V 增加到-900 V 時(shí)，薄膜中Cu 含量先增加而后略有降低，在1.05% ～ ...
