脈沖電壓對(duì)HPPMS制備CrN薄膜的組織結(jié)構(gòu)與力學(xué)性能的影響
【康沃真空網(wǎng)】采用復(fù)合高功率脈沖磁控濺射技術(shù)在單晶Si 片、高速鋼和玻璃上制備CrN 薄膜。分別研究了脈沖電壓在500，600， 700， 750 V 時(shí)對(duì)薄膜的組織結(jié)構(gòu)和力學(xué)性能的影響。結(jié)果表明，隨著脈沖電壓的增加，靶材離化率增加，靶電流以及濺射原子離子數(shù)量級(jí)能量均...
【康沃真空網(wǎng)】采用復(fù)合高功率脈沖磁控濺射技術(shù)在單晶Si 片、高速鋼和玻璃上制備CrN 薄膜。分別研究了脈沖電壓在500，600， 700， 750 V 時(shí)對(duì)薄膜的組織結(jié)構(gòu)和力學(xué)性能的影響。結(jié)果表明，隨著脈沖電壓的增加，靶材離化率增加，靶電流以及濺射原子離子數(shù)量級(jí)能量均...