基體放置狀態(tài)與脈沖偏壓幅值對大顆粒形貌和分布的影響
【康沃真空網(wǎng)】利用電弧離子鍍方法制備了TiN 薄膜，研究了脈沖偏壓幅值和試樣放置狀態(tài)對Ti 大顆粒形貌和分布規(guī)律的影響。采用掃描電子顯微鏡觀察了薄膜的表面形貌，利用ImageJ 科學(xué)圖像軟件對Ti 大顆粒的數(shù)目和尺寸進(jìn)行了分析。結(jié)果表明： 在不施加脈沖偏壓時(shí)，隨著試樣表面與靶表面放置方向從平行到垂直，大顆粒數(shù)目迅速由4964 降低到3032，所占薄膜的面積比從12.1%減少到4.7%； 而在相同的放置方向下...
