低溫等離子體輔助脈沖直流
【康沃真空網(wǎng)】采用一種新型的等離子體輔助脈沖直流磁控濺射濺射沉積方法，在低溫狀態(tài)(100℃) 下制備了氮化鈦薄膜，利用X射線衍射儀、輪廓儀、分光光度計(jì)、原子力顯微鏡對(duì)氮化鈦薄膜進(jìn)行了表征，研究了等離子體源在薄膜制備過程中的作用。結(jié)果表明采用該方法可在低溫環(huán)境下制備高溫抗氧化性能良好的氮化鈦薄膜。當(dāng)離子源功率為500 W 時(shí)，制備的氮化鈦薄膜表現(xiàn)良好氮化鈦(111) 擇優(yōu)取向，薄膜表面粗糙度為1.43 nm，...
