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　　應(yīng)用微波等離子體化學(xué)氣相沉積(MPCVD)技術(shù)，以CH4/H2/N2為主要氣源，通過添加CO2輔助氣體，并與未添加CO2輔助氣體進(jìn)行對比，進(jìn)行了金剛石膜沉積。研究了添加不同濃度CO2對生長金剛石膜的影響。結(jié)果表明：當(dāng)CO2流量在0~25 cm3/min 范圍變化時，金剛石膜表面粗糙度分別為8.9 nm、6.8 nm、9.2 nm、9.6 nm。表明適量引入CO2可以降低膜面粗糙度，但是進(jìn)一步提...