本文中，我們采用空心陰極等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積(MHC-PECVD)在玻璃、表面濺射氧化銦錫(ITO)的玻璃(玻璃+ITO)以及表面濺射ITO的聚酰亞胺(PI+ITO) 柔性襯底上沉積氫化微晶硅(μc-Si:H)，研究不同襯底材料對(duì)微晶硅薄膜性質(zhì)的影響。我們發(fā)現(xiàn)在PI+ITO 襯底上沉積薄膜的結(jié)晶率(Xc)z*小，且結(jié)晶率z*大值時(shí)的溫度依賴(lài)沉底材料：對(duì)于PI+ITO 襯底來(lái)說(shuō)，結(jié)晶率...
