1.定義
蒸發(fā)物質(zhì)的分子被電子碰撞電離后以離子沉積在固體表面,稱為離子鍍。
離子鍍是真空蒸發(fā)與陰極濺射技術(shù)的結(jié)合。
2.原理
蒸發(fā)源接陽極,工件接陰極,當通以三至五千伏高壓直流電以后,蒸發(fā)源與工件之間產(chǎn)生輝光放電。由于真空罩內(nèi)充有惰性氬氣,在放電電場作用下部分氬氣被電離,從而在陰極工件周圍形成一等離子暗區(qū)。帶正電荷的氬離子受陰極負高壓的吸引,猛烈地轟擊工件表面,致使工件表層粒子和臟物被轟濺拋出,從而使工件待鍍表面得到了充分的離子轟擊清洗。隨后,接通蒸發(fā)源交流電源,蒸發(fā)料粒子熔化蒸發(fā),進入輝光放電區(qū)并被電離。帶正電荷的蒸發(fā)料離子,在陰極吸引下,隨同氬離子一同沖向工件,當拋鍍于工件表面上的蒸發(fā)料離子超過濺失離子的數(shù)量時,則逐漸堆積形成一層牢固粘附于工件表面的鍍層。
3.分類
①磁控濺射離子鍍
②反應(yīng)離子鍍
③空心陰極放電離子鍍
④多弧離子鍍。
4.特點
真空鍍膜機離子鍍膜技術(shù)鍍層附著性能好,對離子鍍后的試件作拉伸試驗表明,一直拉到快要斷裂時,鍍層仍隨基體金屬一起塑性延伸,無起皮或剝落現(xiàn)象發(fā)生; 繞鍍能力強,因此這種方法非常適合于鍍復(fù)零件上的內(nèi)孔、凹槽和窄縫,等其他方法難鍍的部位; 鍍層質(zhì)量好,離子鍍的鍍層組織致密、無針孔、無氣泡、厚度均勻; 清洗過程簡化。